多壁碳纳米管生长设备 BST-1200C-CVD

设备型号：BST-1200C-CVD（年产量：2吨）

多壁碳纳米管生长设备（年产1吨） BTF-1500C-CVD

设备型号：BTF-1500C-CVD 设备简介：本设备适用于浮动催化法制备碳纳米管工艺，该设备主要结构有：气体流量控制装置、多温区反应器及加热装置、注液装置、固体收集装置、自动泄压装置、控制系统。

1200℃小型三温区PECVD设备 BTF-1200C-III-S-PECVD

设备型号：BTF-1200C-III-S-PECVD 设备组成：这是一款定制组合式PECVD设备，该设备主要由加热炉、射频组件、气路柜组成。

小型浮动催化系统 BST-1400C-CVD

设备型号：BST-1400C-CVD 设备简介：本设备适用于浮动催化法制备碳纳米管工艺，该设备包括有：气体流量控制装置、多温区反应器及加热装置、注液装置、固体收集装置、自动泄压装置、控制系统。