1200℃ 回转CVD系统 BTF-1200C-III-R-CVD-D210

设备型号：BTF-1200C-III-R-CVD-D210 设备简介：该款设备由控制柜和加热炉组成，控制柜为防爆柜体，内置电路板和气路板，外部可通过触摸屏及手阀操控电路和气路；加热炉由一台三温区开启式管式炉及相应配件组成，炉管可回转，平台可升降；设备左端法兰是进气端，配有截止阀和压力表控制，法兰上部配有真空计，抽口由手动挡板阀搭配防爆变频真空泵组成，最左侧为收集罐供设备倾斜收料，收料同时管壁上配有气锤供防止粘料；设备中部为三温区加热炉，炉盖可电动开启关闭；设备右端法兰为出气端，由真空球阀+转接头组成出气端，法兰后端配有自动泄压装置（传感器+电磁阀），同时配有点火装置；炉管同时配有金属管（可气锤敲击）和石英管（不需要气锤）可相互切换使用。

1200℃连续进出料回转CVD系统 BTF-1200C-RB-D-CVD

设备型号：BTF-1200C-RB-D-CVD 设备简介：该款CVD设备配备加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等；该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-25°之间；真空系统由一个PCG550真空计和一台DRV-16机械泵组成，右端法兰上配有压力保护装置和一个截止阀控制的进气口；同时右端作为进料端，配有进料罐和送料机构作为进料使用；左端法兰上配有PCG550真空计和一个球阀控制的出气口以及一个KF25真空接口；同时左端作为出料端，配有出料系统和收料罐。 工艺应用：广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料等。

回转CVD设备 BTF-1200C-V-R-280

设备型号：BTF-1200C-V-R-280 组成结构：加热系统、炉管转动系统、螺旋送料系统、供气系统、真空系统、工控及操作系统。

等离子体增强回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；该款设备选用特殊形状（两头细中间粗）的石英管作为化学气相沉积的反应室;加热的同时炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉体材料翻炒有助于烧结得更均匀；而且炉体可左右大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0~35°可调。 工艺应用：此款设备现广泛应用于低温石墨烯制备实验、粉体材料碳包覆实验。