1200℃双独立温场滑轨炉 BTF-1200C-II-SSL

设备型号：BTF-1200C-II-SSL 设备简介：BTF-1200C-II-SSL双独立温场滑轨炉具有两个独立滑动和温度控制的温场。操作时可将实验需要的恒定的温场直接推到样品处，使样品得到快速的升温速率，同样也可将温场直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备可选配等离子体发生装置，是二维材料生长的通用设备。

1200℃二维材料制备CVD系统 BTF-1200C-II-SL-CVD

设备型号：BTF-1200C-II-SL-CVD 设备简介：此款CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的反应腔体内部的气体压力和气体流量，对于做低压CVD实验非常实用，重复性高。