1200℃双温区滑轨炉 BTF-1200C-II-SL

设备型号：BTF-1200C-II-SL 设备简介：BTF-1200C-II-SL温区滑轨炉是根据开启式真空管式炉改装而来的，操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备是专为生长石墨烯而研制的石墨烯生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。

1200℃前端预热双温区滑轨炉 可实现快速升降温（可选配等离子体发生装置） BTF-1200C-II-SL

设备型号：BTF-1200C-II-SL

多功能回转CVD系统 BTF-1400C-II-OP-R

设备型号：BTF-1400C-II-OP-R 设备组成：加热系统、炉管转动系统、供气系统、真空系统、工控及操作系统。

1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空） BTF-1200C-II-CVD

设备型号：BTF-1200C-II-CVD 设备简介：此套设备是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成，根据工艺要求亦可选配高真空系统。设备可以抽真空通气体保护。气动弹簧支撑结构使开启更加方便、简捷，使用者可直接将样品放到恒温区加热，在快速降温过程，透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头，减去了取放料时的繁琐操作， 炉管工件横穿与上下各8组进口电阻丝的炉膛，温场均匀，内外温差可控制在3度左右。 工艺应用：广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。