1200℃双独立温场滑轨炉 BTF-1200C-II-SSL

设备型号：BTF-1200C-II-SSL 设备简介：BTF-1200C-II-SSL双独立温场滑轨炉具有两个独立滑动和温度控制的温场。操作时可将实验需要的恒定的温场直接推到样品处，使样品得到快速的升温速率，同样也可将温场直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备可选配等离子体发生装置，是二维材料生长的通用设备。

1200℃双炉滑轨PECVD

设备简介：双温场滑轨炉PECVD(等离子化学气相沉积系统)系统，有多路质量流量计系统(进口流量计)，真空机组(进口真空泵)，PE射频电源(进口射频源)，温控系统等装置构成。使用PE源将气源等离子化，有利于降低工艺温度，同时扩大工艺的使用条件，满足更多的工艺实验要求，如石墨烯、碳纳米管等，控制操作系统集成于触摸屏操作面板上，便于操作与观察。