1200℃三温区管式CVD设备 BTF-1200C-III-3ZL-CVD

设备型号：BTF-1200C-III-3ZL-CVD 设备组成：该设备主要由多路供气系统、三温区加热炉、低真空系统、以及智能控压组件组成。

1200℃低真空CVD石墨烯生长系统 BTF-1200C-CVD

设备型号：BTF-1200C-CVD

1500℃低真空CVD系统 BTF-1500C-3ZL

设备型号：BTF-1500C-3ZL 设备简介：此款CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1500度高温管式炉组成。 工艺应用：其广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空） BTF-1200C-II-CVD

设备型号：BTF-1200C-II-CVD 设备简介：此套设备是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成，根据工艺要求亦可选配高真空系统。设备可以抽真空通气体保护。气动弹簧支撑结构使开启更加方便、简捷，使用者可直接将样品放到恒温区加热，在快速降温过程，透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头，减去了取放料时的繁琐操作， 炉管工件横穿与上下各8组进口电阻丝的炉膛，温场均匀，内外温差可控制在3度左右。 工艺应用：广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。