1200℃ 智能型PECVD系统 PECVD-500A

设备型号：PECVD-500A 设备简介：该设备是将所有的控制部分集为一体的一款智能型PECVD系统，设备配备PE射频电源，将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体，可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用，从而很大程度上优化实验的工艺条件。与传统CVD系统比较，生长温度更低。使用滑轨炉实现快速升温和降温，设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效，均匀生长。

1200℃ 三温区滑轨PECVD系统 PECVD-500A-III

设备型号：PECVD-500A-III 设备简介：这是一款由三温区加热炉、射频组件、气路系统、及自动化控制软件集成的智能型PECVD系统。开启式加热炉炉膛采用超轻氧化铝纤维材料，配K型热电偶。设备升降温控制灵活、加热炉可开启方便客户更换维修反应管；气路系统由质量流量计精确控制多路气体按不同流量进行混合配比后进入反应管内，500W高性能射频辉光均匀，可使整个反应腔体都处于辉光产生区。

1200℃双独立温场滑轨炉 BTF-1200C-II-SSL

设备型号：BTF-1200C-II-SSL 设备简介：BTF-1200C-II-SSL双独立温场滑轨炉具有两个独立滑动和温度控制的温场。操作时可将实验需要的恒定的温场直接推到样品处，使样品得到快速的升温速率，同样也可将温场直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备可选配等离子体发生装置，是二维材料生长的通用设备。

单壁碳纳米管生产设备 BTF-2000C-VT-300

设备型号：BTF-2000C-VT-300 plasma立式流化床：等离子炬立式流化床设备是一种高效的化工工艺设备，结合了等离子技术和流化床技术，用于气相反应和气固相反应。该设备通过将天然气通入其中，在等离子体的作用下进行分解，产生碳和氢等产物。