双炉膛CVD
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1200℃双炉膛滑动CVD控制系统 BTF-1200C-II-SL-210
设备型号：BTF-1200C-II-SL-210 设备简介：该设备为二维材料生长炉，可快速推炉到样品区，实现快速升温沉积，沉积后快速拉离，实现快速冷却，抑制缺陷，提升石墨烯质量。
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