智能型滑轨式CVD系统 BTF-1200C-SL-L-CVD

设备型号：BTF-1200C-SL-L-CVD 设备简介：BTF-1200C-SL-L-CVD是一款智能型滑轨式CVD系统。该设备主要分为五大部分：加热系统，真空系统，气体控制供给系统，自动控制移动系统，控制软件系统组成。炉膛为440mm温区炉膛，配K型热电偶，单点控温；加热炉置于滑轨上，可手动在规定的范围内任意滑动到想要的位置并用限位器固定住；气路系统采用4路流量计控制，经由不锈钢混气罐混合，再进入左端进气法兰；左端法兰端盖上预留1路进气口，内部有不锈钢导气管，可将气体导入加热区位置。该设备适用于高校研究所以及研发型企业使用。

1200℃智能型单温区滑轨式热处理设备 BTF-1200C-SL-4Z

设备型号：BTF-1200C-SL-4Z 设备简介：管式真空/气氛提纯分离装置主要用途是在真空条件下预先抽真空后进行惰性气体洗气。气氛流动（一进一出，维持常压）情况下对有机混合物进行升华达到纯化的目的（即蒸发后再结晶）。主要处理对象为具有升华性的有机材料或具有流动相持性混合物如有机声光产品（有机发光显示器使用的有机光电材料）或纳米材料。

1200℃滑轨式CVD石墨烯生长系统 BTF-1200C-SL-CVD

设备型号：BTF-1200C-SL-CVD 设备简介：此款设备是专为生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验，温区可独立程序控制，设备操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。

1200℃双炉膛滑动CVD控制系统 BTF-1200C-II-SL-210

设备型号：BTF-1200C-II-SL-210 设备简介：该设备为二维材料生长炉，可快速推炉到样品区，实现快速升温沉积，沉积后快速拉离，实现快速冷却，抑制缺陷，提升石墨烯质量。