Plasma增强PECVD系统
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1200℃ 三温区滑轨PECVD系统 PECVD-500A-III
设备型号:PECVD-500A-III 设备简介:这是一款由三温区加热炉、射频组件、气路系统、及自动化控制软件集成的智能型PECVD系统。开启式加热炉炉膛采用超轻氧化铝纤维材料,配K型热电偶。设备升降温控制灵活、加热炉可开启方便客户更换维修反应管;气路系统由质量流量计精确控制多路气体按不同流量进行混合配比后进入反应管内,500W高性能射频辉光均匀,可使整个反应腔体都处于辉光产生区。
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1200℃连续送料出料回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD-AD2
设备型号:BTF-1200C-R-PECVD-AD2 设备简介:BTF-1200C-R-PECVD-AD2设备是全自动Plasma增强PECVD系统,连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下进行实验,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,有效的解决了传统等离子工作不稳定状态,该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进出料,倾斜角度在0-30°之间。
1200℃台面式等离子体增强真空回转炉 BTF-1200C-R-PECVD
设备型号:BTF-1200C-R-PECVD 设备简介:该款设备是全自动Plasma增强PECVD系统,连续可控温度以及Plasma强度等。配备真空系统,可以低压条件下进行实验。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,有效的解决了传统等离子工作不稳定状态。该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀。
迷你智能型等离子体可回转化学气相沉积系统 BTF-1200C-S-R-PECVD
设备型号: BTF-1200C-R-S-PECVD 设备简介:本款设备可以做金属复合石墨烯材料,是目前最高端的金属复合材料制备设备。可以用于动力电池,提升电池内阻和能量密度,有效解决新能源汽车电池的问题。该设备炉管可360度旋转,管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀;全自动Plasma增强CVD系统(PECVD),系统可以实现连续滑动温区,连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以实现低压条件下的实验,针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。
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