1200℃连续送料出料回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD-AD2

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD-AD2 设备简介：BTF-1200C-R-PECVD-AD2设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下进行实验，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-30°之间。

1200℃台面式等离子体增强真空回转炉 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：该款设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等。配备真空系统，可以低压条件下进行实验。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态。该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀。