回转CVD设备 BTF-700C-III-R

设备型号：BTF-700C-III-R 设备简介：本设备加热炉采用电阻丝加热，技术成熟质量可靠，温场均匀。炉管内部带粉尘挡板，两端为磁流体旋转密封，炉管整体由伺服电机驱动在加热炉膛内旋转，转速可调。气体缓冲罐，设计容量600L设置压力泄放安全装置。缓冲罐接口开关控制全部为PLC智能电动控制。高真空机组使用罗茨泵机组带粉尘过滤器，抽速300L/S，真空度≤10pa，设置有粗真空旁抽管路，安全保护程序。广泛应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料等。

1200℃台面式等离子体增强真空回转炉 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：该款设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等。配备真空系统，可以低压条件下进行实验。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态。该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀。

1200℃连续进出料回转CVD生长设备 BTF-1200C-II-R-CVD

设备型号：BTF-1200C-II-R-CVD