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贝意克参加2025深圳国际石墨烯论坛暨二维材料国际研讨会！
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贝意克亮相第九届全国分子材料与器件学术研讨会！
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单温区CVD系统
实验级流化床设备 BTF-1200C-D-CVD
名称

实验级流化床设备 BTF-1200C-D-CVD
设备型号：BTF-1200C-D-CVD 设备简介：该款设备为立式实验级流化床制备设备，设备配有上端进料装置，中部反应炉管，下部收集装置；实验通过上端螺旋送粉料至管内内管，反应气体通过下端法兰内管进入，与落入内管的粉料混合并将粉料吹入到内管外，在内管外自由落入下端法兰直至收集罐中；通过收集罐收集取出产物。
智能型滑轨式CVD系统 BTF-1200C-SL-L-CVD
名称

智能型滑轨式CVD系统 BTF-1200C-SL-L-CVD
设备型号：BTF-1200C-SL-L-CVD 设备简介：BTF-1200C-SL-L-CVD是一款智能型滑轨式CVD系统。该设备主要分为五大部分：加热系统，真空系统，气体控制供给系统，自动控制移动系统，控制软件系统组成。炉膛为440mm温区炉膛，配K型热电偶，单点控温；加热炉置于滑轨上，可手动在规定的范围内任意滑动到想要的位置并用限位器固定住；气路系统采用4路流量计控制，经由不锈钢混气罐混合，再进入左端进气法兰；左端法兰端盖上预留1路进气口，内部有不锈钢导气管，可将气体导入加热区位置。该设备适用于高校研究所以及研发型企业使用。
1200℃智能型单温区滑轨式热处理设备 BTF-1200C-SL-4Z
名称

1200℃智能型单温区滑轨式热处理设备 BTF-1200C-SL-4Z
设备型号：BTF-1200C-SL-4Z 设备简介：管式真空/气氛提纯分离装置主要用途是在真空条件下预先抽真空后进行惰性气体洗气。气氛流动（一进一出，维持常压）情况下对有机混合物进行升华达到纯化的目的（即蒸发后再结晶）。主要处理对象为具有升华性的有机材料或具有流动相持性混合物如有机声光产品（有机发光显示器使用的有机光电材料）或纳米材料。
1700℃高温CVD系统 BTF-1700C-CVD
名称

1700℃高温CVD系统 BTF-1700C-CVD
设备型号：BTF-1700C-CVD 设备简介：由1700℃管式炉、三路质量流量计系统以及国产高真空系统（有高、低真空系统可选）所组成；设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，气路选用液晶屏触摸界面，使得操作异常简单、方便；设备的各项技术参数，30段可编程温控系统更是一目了然,使整个实验的运行状态尽在您的掌控之中。 应用领域：主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。
迷你型CVD系统
名称

迷你型CVD系统
1200℃滑轨式CVD石墨烯生长系统 BTF-1200C-SL-CVD
名称

1200℃滑轨式CVD石墨烯生长系统 BTF-1200C-SL-CVD
设备型号：BTF-1200C-SL-CVD 设备简介：此款设备是专为生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验，温区可独立程序控制，设备操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。
1200℃低真空CVD石墨烯生长系统 BTF-1200C-CVD
名称

1200℃低真空CVD石墨烯生长系统 BTF-1200C-CVD
设备型号：BTF-1200C-CVD
1500℃低真空CVD系统 BTF-1500C-3ZL
名称

1500℃低真空CVD系统 BTF-1500C-3ZL
设备型号：BTF-1500C-3ZL 设备简介：此款CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1500度高温管式炉组成。其广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
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