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一家集新材料设备研发、生产、销售与技术服务于一体的高科技企业

配件类型
条件：
清空条件

1700℃ 18.7L真空气氛箱式炉 ZMF-1700C-III

1700℃ 18.7L真空气氛箱式炉 ZMF-1700C-III

三温区智能型等离子体化学沉积系统（BTF-1200C-III-500A-PECVD）

三温区智能型等离子体化学沉积系统（BTF-1200C-III-500A-PECVD）

1200℃四通道组合式箱式炉 MF-1200C-I-4M

1200℃四通道组合式箱式炉 MF-1200C-I-4M

1700℃组合式六通道高温箱式炉 MF-1700C-S-6M

1700℃组合式六通道高温箱式炉 MF-1700C-S-6M

1700℃组合式四通道高温箱式炉 MF-1700C-I-4M

1700℃组合式四通道高温箱式炉 MF-1700C-I-4M

1500℃低真空CVD系统 BTF-1500C-3ZL

1500℃低真空CVD系统 BTF-1500C-3ZL

1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空） BTF-1200C-II-CVD

1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空） BTF-1200C-II-CVD

1700℃高温CVD系统 BTF-1700C-CVD

1700℃高温CVD系统 BTF-1700C-CVD

1200℃二维材料制备CVD系统 BTF-1200C-II-SL-CVD

1200℃二维材料制备CVD系统 BTF-1200C-II-SL-CVD

1200℃小三温区滑轨CVD BTF-1200C-III-S-SL-3ZL

1200℃小三温区滑轨CVD BTF-1200C-III-S-SL-3ZL

1200℃双独立温区滑轨炉CVD设备（可用于生长硫化钼）BTF-1200C-II-SSL-CVD

1200℃双独立温区滑轨炉CVD设备（可用于生长硫化钼）BTF-1200C-II-SSL-CVD

复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备

复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备

1200℃大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境均可）BTF-1200C-III-SL-4ZL

1200℃大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境均可）BTF-1200C-III-SL-4ZL

1200℃双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）BTF-1200C-MPCVD

1200℃双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）BTF-1200C-MPCVD

火焰吹制真空回转设备 MVP-R

火焰吹制真空回转设备 MVP-R

连续进出料等离子体增强回转PECVD设备 BTF-1200C-RP-PECVD

连续进出料等离子体增强回转PECVD设备 BTF-1200C-RP-PECVD

1200℃双炉滑轨PECVD

1200℃双炉滑轨PECVD

1200℃三独立智能型滑轨PECVD PECVD-III-500A-SSSL

1200℃三独立智能型滑轨PECVD PECVD-III-500A-SSSL

高真空封口机 BOF-04PB

高真空封口机 BOF-04PB

射频电源150W/300W/500W

射频电源150W/300W/500W

1200℃三温区滑轨式PECVD系统 BTF-1200C-III-SL-PECVD

1200℃三温区滑轨式PECVD系统 BTF-1200C-III-SL-PECVD

1200℃双温区PECVD系统 BTF-1200C-II-SL-PECVD

1200℃双温区PECVD系统 BTF-1200C-II-SL-PECVD

1200℃单温区滑轨式PECVD系统 BTF-1200C-SL-PECVD

1200℃单温区滑轨式PECVD系统 BTF-1200C-SL-PECVD

1200℃小型滑轨式PECVD系统 BTF-1200C-S-SL-PECVD

1200℃小型滑轨式PECVD系统 BTF-1200C-S-SL-PECVD

1200℃微型PECVD系统 BTF-1200C-S-PECVD

1200℃微型PECVD系统 BTF-1200C-S-PECVD

卷对卷连续生长石墨烯PECVD设备 RTR-III-150

卷对卷连续生长石墨烯PECVD设备 RTR-III-150

迷你智能型等离子体可回转化学气相沉积系统 BTF-1200C-S-R-PECVD

迷你智能型等离子体可回转化学气相沉积系统 BTF-1200C-S-R-PECVD

高温井式坩埚炉 BTF-1400C-VF-D

高温井式坩埚炉 BTF-1400C-VF-D

1200℃井式坩埚炉 BTF-1200C-CT

1200℃井式坩埚炉 BTF-1200C-CT

前端气体预热装置 VTF-400C

前端气体预热装置 VTF-400C

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